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醫(yī)用植入體的制造過程需要非常高水平的質(zhì)量控制，尤其是當零部件將被長期植入脊柱區(qū)域時（如圖1所示）。檢查過的零件呈現(xiàn)出來源不明確的不均勻標記，只有在最終目視檢查中才會被發(fā)現(xiàn)。目視檢查的可接受性標準通常依賴于人眼的解讀，并且在客戶規(guī)格中缺乏充分的描述，而這可能導致零件合規(guī)性方面發(fā)生沖突。如果造成缺陷的因素中涉及到機械加工，則可以定期進行粗糙度分析，以幫助評估標記。但是，接觸式觸針2D輪廓儀在這種復雜的成品鈦零件上留下的標記會造成不易被接受的缺陷。因此，我們選擇了非接觸式光學表面輪...

司特爾金相制樣是材料科學領(lǐng)域中一種常用的金相制樣方法，廣泛應(yīng)用于金屬和合金的顯微組織分析、質(zhì)量控制和故障診斷。該技術(shù)通過對材料表面進行切割、磨光、腐蝕等處理，生成具有代表性的金相切片，使得研究者能夠清晰地觀察到材料的內(nèi)部結(jié)構(gòu)與微觀特征。司特爾金相制樣技術(shù)在航空航天、汽車制造、冶金工程等行業(yè)中起到了至關(guān)重要的作用。一、基本流程司特爾金相制樣的過程通常包括以下幾個步驟：取樣、切割、磨光、拋光、腐蝕和顯微觀察。每個環(huán)節(jié)都需要精確操作，確保制樣的質(zhì)量和可靠性。1.取樣：首先選擇適當?shù)?..

三維共聚焦顯微鏡，作為一種高精度的成像技術(shù)，為科研與工業(yè)領(lǐng)域提供了強大的工具。其成像原理與廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域使其成為現(xiàn)代顯微技術(shù)的重要組成部分。一、技術(shù)原理三維共聚焦顯微鏡，又稱激光共聚焦掃描顯微鏡(LCSM)，主要基于激光掃描和光學切片技術(shù)實現(xiàn)高精度三維成像。其成像原理大致如下：激光掃描：顯微鏡通過光源(通常是激光)對樣品進行逐點掃描。激光聚焦在樣品的選定區(qū)域，被樣品吸附的熒光染料會發(fā)出熒光。光學切片：通過共軛孔徑系統(tǒng)排除非焦平面的光，僅允許來自焦平面的光通過，從而實現(xiàn)高分辨率...

卡爾斯魯厄理工學院(KIT)的有機光伏小組研究有機太陽能電池和半導體器件的制造、優(yōu)化和仿真。我們的研究重點是評估新材料、沉積技術(shù)和器件制造，包括從單層沉積和結(jié)構(gòu)化到器件表征等所有步驟。這項工作的目的是制造適用于照明設(shè)備的大型有機發(fā)光二極管(OLED)。這要求OLED間進行隱形串聯(lián)，以減少器件電流，從而減輕歐姆損耗。飛秒激光用于選擇性地構(gòu)造層。OLED中的半透明電極的高電阻導致嚴重的歐姆損耗。歐姆損耗導致器件發(fā)出不均勻的光?？梢酝ㄟ^串聯(lián)較小的OLED解決此問題。器件的較小面積限...

在用于生物應(yīng)用的納米壓力傳感器的制造中，犧牲層蝕刻和由真空間隙分隔開的兩個膜的密封，以形成Fabry-Pérot諧振器，這些都是至關(guān)重要的因素。知道在制造過程之后膜片初始撓曲的確切時間同樣也是關(guān)鍵。圖1.制成的壓力傳感器的SEM圖像（條形刻度1µm）壓力傳感器是一個6×10µm的芯片，包括一個由兩個被真空間隙隔開的多晶硅膜和一個光學參考區(qū)域限定的機械傳感器。薄膜起平行反射鏡的作用，構(gòu)成Fabry-Pérot諧振器，對某些波長部分透明。外部壓力P使薄膜偏...

在工具行業(yè)中，光學測量在從設(shè)計和工具使用的角度都是取得成功的關(guān)鍵。光學輪廓儀為制造商提供寶貴的信息，幫助他們優(yōu)化他們的工具和工藝。光學測量在工具制造中的一個關(guān)鍵應(yīng)用是切削工具的尺寸特征化，以確保工具的最佳性能和長壽命。除尺寸特征化外，粗糙度測量對于預測切割材料從工具中有多好地排出也很有意義。這些信息對于預防工具使用過程中的凝塊形成或過熱至關(guān)重要。光學測量系統(tǒng)也可以提供局部測量，以幫助識別潛在的切削工具問題。例如，這些系統(tǒng)可以檢測到切口或涂層剝落，這表明工具需要被替換或修復。值...

化學機械平面化（CMP）是半導體、硬盤和LED晶片制造行業(yè)的關(guān)鍵過程，用于實現(xiàn)基板晶片所需的平整度。平面化對于確保結(jié)構(gòu)內(nèi)多層互連的功能性以及在保持均勻性的同時減少晶片厚度至關(guān)重要。隨著特征尺寸繼續(xù)縮小和集成級別繼續(xù)提高，CMP預計在未來微電子設(shè)備的發(fā)展中將扮演越來越重要的角色。通過精確控制表面地形和材料屬性，CMP可以實現(xiàn)新型的設(shè)備架構(gòu)，如3D堆疊、finFETs、納米線和量子點。此外，化學機械平面化還可以通過克服傳統(tǒng)蝕刻技術(shù)的限制，促進新材料的集成，如高k電介質(zhì)、低k電介質(zhì)...

研究重點是改善類金剛石（DLC）涂層的摩擦力學性能。這類涂層采用新型PVD技術(shù)高功率脈沖磁控濺射（HiPIMS），通過正脈沖沉積在工具鋼上。這些涂層因其優(yōu)異的耐磨性、極低的摩擦系數(shù)、*高的硬度或生物相容性而受到業(yè)界的高度關(guān)注。研究的目的是提高DLC涂層在不同鋼基材上的附著或耐磨性等摩擦力學性能。我們期望借助Sensofar的3D光學輪廓儀，在更高質(zhì)量的2D和3D圖像中以更高的測量精度進行表面表征。我們測量了有涂層和無涂層圓形樣品和平面樣品。使用不同的鋼材和陶瓷作為基材。使DL...